Plazmové povrchové ošetření | Nano - Systém pro plazmové povrchové ošetření za nízkého tlaku, plazmové čištění

Plazmové zařízení společnosti Diener electronic si již dlouho našlo své místo v nejrůznějších průmyslových odvětvích. S plazmovým zařízením s nízkým tlakem Nano vsadíte na moderní a trvalou technologii studeného plazmatu ve vakuu. Objem komory 18 až 24 litrů tohoto plazmového systému poskytuje dostatek prostoru pro laboratoře a sériovou výrobu. Zpracování plazmou při nízkém tlaku je osvědčená technika pro kontrolované jemné čištění, zlepšení adheze (aktivace a leptání) a nanášení tenkých vrstev na povrchy substrátů. Plazma je generována použitím vysokofrekvenčního napětí v vakuové komoře. Zpracovávaný plyn, který je do ní zaveden, je poté ionizován. Aplikace: - Čistění bez VOC z organických zbytků. - Aktivace před lakováním, lepením, zaléváním, ... - Leptání PTFE, fotocitlivých laků, oxidových vrstev, ... Rozměry (stolní zařízení): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (ŠxVxH) Rozměry (stojanové zařízení): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (ŠxVxH) Vakuová komora (materiál): Nerezová ocel, Hliník, Křemenné sklo, Borosilikátové sklo Vakuová komora (rozměry): cca D 240 mm x V 240 mm x H 400 - 420 mm, Ø 267 mm, H 400 - 420 mm Vakuová komora (objem): cca 18 - 24 litrů Vakuová komora (uzavření): víko, dvířka na závěsech Přívod plynu: Jehlové ventily / Hmotnostní průtokoměry (Mass-Flow-Controller (MFCs)) Měření tlaku: Pirani, Kapacitní manometr (pro verzi s korozivním plynem) Generátory: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Elektrody: Jeden nebo více úrovní Systémy řízení: Poloautomatické, Otočný knoflík, Základní PC, Plné PC Napájení: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuové pumpy: Sací výkon: 16 m³/h