Chemické Cín

Aby se minimalizovaly nevýhody kolísání tloušťky vrstvy v procesu HAL a dosáhlo se bezolovnatého povrchu, byl vyvinut nový postup, chemické cínování. V současnosti se používají moderní elektrolyty, které se vyznačují pozitivními vlastnostmi. Mezi nimi stojí za zmínku: jemnozrnná struktura, bezpórovitost, dobrá skladovatelnost a rovný/hladký povrch. V tomto procesu je vyčištěná a leptaná deska ponořena do chemického lázně. Chemickou reakcí dochází k výměně atomů mědi za cínové ionty a roste cínová vrstva. I zde následně probíhá čištění a sušení desek.