Plazmový systém pro povrchovou úpravu | Pico - Systém s nízkým tlakem, Plazmový systém pro povrchovou úpravu, Plazmový čistič

Plazmové zařízení od společnosti Diener electronic se již dávno prosadila v nejrůznějších průmyslových odvětvích. S nízkotlakým plazmovým zařízením Pico se spoléháte na moderní a budoucnost zajišťující studenou plazmovou technologii ve vakuu. Objem komory od 5 do 8 litrů tohoto plazmového systému poskytuje dostatek prostoru pro obsluhu laboratoří i sériové výroby. Plazmové ošetření v nízkotlakém plazmu je osvědčená technika pro kontrolované jemné čištění, zlepšení adheze (aktivace a leptání) a nanášení tenkých vrstev na povrchy substrátů. Plasma je generováno použitím vysokofrekvenčního napětí ve vakuové komoře. Při tom je procesní plyn, který je do komory zaveden, ionizován. Oblasti použití: - VOC-bez čištění organických zbytků - Aktivace před lakováním, lepením, zaléváním, … - Leptání PTFE, fotolaku, oxidových vrstev, … - Super-hydrofobní a -hydrofilní povlaky Rozměry (stolní zařízení): 310 - 560 mm x 330 - 860 mm x 420 - 600 mm (ŠxHxH) Rozměry (stojanové zařízení): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (ŠxHxH) Materiál vakuové komory: Nerezová ocel, hliník, křemenné sklo (UHP), borosilikátové sklo (HP) Rozměry vakuové komory: cca Š 160 mm x V 160 mm x H 200 - 300 mm; Ø 130 mm, H 200 - 320 mm Objem vakuové komory: cca 5 - 8 litrů Uzavření vakuové komory: víko, dveře s panty Přívod plynu: jehlové ventily nebo regulátory průtoku (MFC) Generátor: 40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Měření tlaku: Pirani, kapacitní manometr Elektrody: podle přání zákazníka Ovládání: poloautomatické, otočný spínač, základní PC (Win. CE), plné PC (Win. 10 IoT) Napájení: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuová pumpa: sací výkon min. 6 m³/h