Plazmový systém pro úpravu povrchů | Nano - Systém s nízkým tlakem, Plazmový systém pro úpravu povrchů, Plazmový čistič

Plazmové systémy od společnosti Diener electronic se již dlouho etablovaly v široké škále průmyslových odvětví. S nízkotlakým plazmovým systémem Nano se můžete spolehnout na moderní a budoucnost zajišťující technologii studeného plazmatu ve vakuu. Objem komory 18 až 24 litrů tohoto plazmového systému nabízí dostatek prostoru pro laboratorní i sériovou výrobu. Plazmová úprava v nízkotlakém plazmatu je osvědčená technika pro kontrolované ultrajemné čištění, zlepšení adheze (aktivace a leptání) a nanášení tenkých vrstev na povrchy substrátů. Plazma je generována aplikací vysokofrekvenčního napětí ve vakuové komoře. Při tomto procesu je procesní plyn, který je tam zaveden, ionizován. Oblasti použití: - Čistění bez VOC organických zbytků. - Aktivace před lakováním, lepením, zaléváním, ... - Leptání PTFE, fotorezistů, oxidových vrstev, ... - Super-hydrofobní a -hydrofilní povlaky Rozměry (stolní): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (ŠxVxH) Rozměry (samostatné): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (ŠxVxH) Materiál vakuové komory: Nerezová ocel, Hliník, Křemenné sklo (UHP), Borosilikát (HP) Rozměry vakuové komory: cca Š 240 mm x V 240 mm x H 400 - 420 mm; Ø 267 mm, H 400 - 420 mm Objem vakuové komory: přibližně 18 - 24 litrů Uzávěr vakuové komory: Víko, sklápěcí dveře Přívod plynu: Jehlicové ventily nebo regulátory hmotnostního průtoku (MFC) Měření tlaku: Pirani, Kapacitní manometr Generátor: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Elektrody: Podle požadavků zákazníka Ovládání: Polosamostatné, Otočný spínač, Základní PC (Win.CE), Plné PC (Win.10 IoT) Napájení: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuová pumpa: Kapacita: 16 m³/h