Cíle pro sputtering z wolframu - Wolframový tenký filmový materiál pro PVD povlakování

Tungstenové vrstvy jsou součástí tenkovrstvých tranzistorů používaných v TFT-LCD obrazovkách. Používají se všude tam, kde jsou potřeba velké formáty obrazovek, zejména s vysokým rozlišením a optimalizovanými kontrasty. Tungsten se také používá jako difuzní bariéra a vodivý konektor v mikroelektronickém průmyslu. Díky největšímu horkému válcovacímu millu na žáruvzdorné kovy na světě je Plansee schopna vyrábět největší tungstenové cíle pro sputtering na Zemi. Výhoda pro vás z velkých formátů: Proces pokovování je stabilnější a nanesené vrstvy mají vyšší kvalitu. Díky speciálním tvarovacím procesům mají tungstenové cíle pro sputtering od Plansee hustotu téměř 100 %. V důsledku toho váš proces těží z obzvlášť vysoké úrovně vodivosti a časových úspor díky vynikajícím rychlostem sputteringu. Materiál: Molybden