cíle pro sputtering

...Titanové cíle pro sputtering pro integrované obvody, ukládání informací, použití laseru, část pro zpracování kovů...

... schopna vyrábět největší tungstenové cíle pro sputtering na Zemi. Výhoda pro vás z velkých formátů: Proces pokovování je stabilnější a nanesené vrstvy mají vyšší kvalitu. Díky speciálním tvarovacím procesům mají tungstenové cíle pro sputtering od Plansee hustotu téměř 100 %. V důsledku toho váš proces těží z obzvlášť vysoké úrovně vodivosti a časových úspor díky vynikajícím rychlostem sputteringu. Materiál: Molybden...

EVOCHEM dodává rozsáhlé produktové portfolio pro všechny aplikace tenkých vrstev a průmysly. Naše dodávkové programy zahrnují více než 60 různých materiálů pro odpařování a PVD spotřebních materiálů, Sputter Targets, oscilační krystaly jakéž filamente. Kromě toho dodáváme vysoce čisté kovy ve všech formách a rozměrech.

...Vyrábíme cíle, jak jednotlivé kusy, tak kompletní sady Odolnost – podle specifikací zákazníka Typ vodivosti: – P nebo N Tvar: kulatý nebo obdélníkový Maximální průměr: Ф155 ± 0,1 mm Maximální úhlopříčka obdélníkových cílů: 160 ± 0,2 mm Maximální tloušťka: 100 mm ± 0,025 mm...

... narazí na cíl s dostatečnou silou, aby vyrazily atomy. Tyto atomy se kondenzují na površích umístěných v blízkosti a tvoří povlak. Pro zvýšení rychlosti zpracování jsou cíle upevněny na magnetronu, což zvyšuje účinnost procesu a činí ho průmyslovým. Tento proces při nízkých teplotách umožňuje nanášení na všechny typy materiálů na široké škále substrátů. To umožňuje depozici široké škály materiálů.

...Metalické cíle pro sputtering, Polometalické cíle pro sputtering, Nemetalické cíle pro sputtering, Vodivé nemetalické cíle pro sputtering, Legované cíle pro sputtering...

... - Dekorativní povrchová úprava a optika Seznam našich standardních materiálů ve formě plochých cílů a trubkových cílů najdete o něco níže. Prozkoumáme všechny důležité výrobce Sputter-Target a vybereme správný materiál. Sputter-Targets: Dodáváme podle vašich požadavků Zašlete nám vaše specifikace týkající se materiálu, čistoty a rozměrů a my vám připravíme individuální nabídku. Naše produktová řada zahrnuje také službu Bonding a zpětný odběr použitých Sputtering Targets. > Mluvte s...

...tantal, wolfram, rhenium, iridium, platina, zlato, olovo, bizmut, cerium, Pr, karbid wolframu, terbium, holmium, erbium, thulium. Keramické cíle pro sputtering: Al2O3 (oxid hlinitý), Al2O3/ZnO (AZO) oxid hliníku a zinku, oxid europia (Eu2O3), oxid gadolinium (Gd2O3), oxid terbium (Tb4O7), oxid dysprosia (Dy2O3), oxid erbia.